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功能陶瓷薄膜的低温制备技术

专利权人:沈阳工业大学

该技术是在单模式微波加热设备中加热非晶态的铁电、介电、导电和磁性薄膜,在提高陶瓷薄膜的功能特性同时, 可以大幅度降低陶瓷薄膜的结晶温度和时间,使高性能的功能陶瓷薄膜在500ºC的低温制备成为可能。

具体了解该成果信息,请致电:(024)2549 4373

该技术是在单模式微波加热设备中加热非晶态的铁电、介电、导电和磁性薄膜,在提高陶瓷薄膜的功能特性同时, 可以大幅度降低陶瓷薄膜的结晶温度和时间,使高性能的功能陶瓷薄膜在500ºC的低温制备成为可能。