专利权人：杭州电子科技大学

研究内容包括微纳图形化直写在腔增强痕量物质检测中的应用研究、基于体相全息光栅优化的光学分析探头的研究、自由空间中矢量光束弯曲传播行为及其可调控性研究等。未来可将纳米图形化直写与成像检测仪器应用于产生偏振态非均匀分布的矢量光场的微纳结构制备，拓展纳米图形化直写与成像检测仪器在与含量物质检测密切相关的环境分析、资源勘探、食品安全、生命科学、医学医疗等领域中的新应用。

具体了解该成果信息，请致电：13456936705