近年来，中国制造业的全球份额和竞争力不断提升，企业的精密加工能力已具备和外企竞争之实力，但因产品耐用性差而面临竞争力不足、附加值低的问题。快速发展的精密制造业面临两种突出的矛盾现状：精密制品市场，产能不断扩大，但难以摆脱廉价低端形象；国内相关科研成果众多，却很少涉及先进表面处理装备的核心制造技术而仍需依赖进口，相关科研成果转化长期徘徊不前。针对这种不利现状，课题组着眼于技术壁垒突破难度较大的第三代闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术，在科技部“863”计划项目和陕西省“13115”科技专项的支持下，已在国内独家率先掌握了具有自主知识产权的多靶闭合场非平衡磁控溅射设备制造技术，该设备具有处理工件尺寸大，数量多，效率高，镀层制备灵活，成本低等优点。所完成的镀膜设备已先后被中国航天科技集团、哈工大等多家单位采用，单台平均造价仅为进口产品的 1/2。本研究成果通过对装备的磁场强度及分布方式优化，也进一步提高了镀膜沉积速率和质量，以及对磁控溅射专用电源和控制系统的开发优化，以进一步提高生产效率和改进膜层制备的可重复性，达到产业化批量制造和降低成本的目的。同时基于该设备研究开发了具有耐磨和减摩性能的高质量镀层工艺，该工艺在微钻、工模具、刀具、轴承、钢领等产品的表面处理上取得了广泛应用。