本发明技术研制的含氟清洗剂,由各种特征性的溶剂混合而成, 可满足各类半导体器件及仪器的清洗需求, 清洗效果优良。含氟清洗剂以含氟化合物作为溶剂，既有良好的清洗性能，又不易燃烧，安全性较高、环保、气味小、挥发快。既可除去半导体器件及电子设备表面的油污、焊渍、胶痕，又能除掉材料表面的灰尘、手指印等污物。同时，不腐蚀有机玻璃、金属、陶瓷、聚乙烯、尼龙等材料，因此，本含氟清洗剂适用于半导体器件、及电子、精密机械和光学、电机等元件的清洗。本清洗剂成份，含氟碳溶剂、氢氟醚、有机醇、表面活性剂、螯合剂和稳定剂等功能成份。清洗剂易燃性低、挥发快，不含破坏环境的氟氯烃类化合物，对半导体表面残留物、助焊剂、松香、树脂、油污、指印、灰尘的清洗效果良好。也可用在电子、数码、太阳能工业产品的表面清洗上。本技术获得中国发明专利（ZL 201510593289.7）授权。