将封闭场非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射、离子辅助溅射和脉冲工件负偏压结合在一起，研制出新型中频对靶磁控溅射系统；揭示了磁控靶电压波形、脉冲等离子体参数和合成的类金刚石（DLC）薄膜结构及性能的关联性，通过掺入Cr元素来降低DLC薄膜的内应力和改善其附着力，利用研制的镀膜系统合成了含铬DLC薄膜，并对含铬DLC膜的摩擦磨损性能进行了系统表征。本项目建立了制备优质薄膜所需的中频对靶磁控溅射系统和工艺技术。 合成的含铬DLC薄膜具有高硬度（46GPa）、良好附着力（临界载荷为55N）、低的表面粗糙度（Ra为4.5nm）、低摩擦系数（约0.1），有望成为自润滑和长寿命刀具、模具、精密机械对摩副等高质量保护涂层。