专利权人：华中科技大学

基于空间隔离原子层沉积技术沉积的薄膜具有保形性好、针孔少、快速等特点，要实现空间隔离原子层沉积技术在工业上的低成本批量应用，可靠的设备设计至关重要。本项目以空间隔离原子层沉积技术为原理，设计一种常压下薄膜快速、均匀制备的装置，制备速率可达100 nm/min，不均匀性在±3%左右。应用主要集中于太阳能电池表面钝化提高电池的光电转化效率和电子器件封装以阻隔水氧。

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