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一种高效率纳米结构LED芯片

专利权人:广东技术师范学院

本技术主要是在蓝光LED芯片的透明电极铟锡氧化物(ITO)层上制备经过设计的纳米结构,有效地提高LED芯片的出光效率。根据前期多次的实验结果,我们可以将现有的LED芯片的发光效率提高1倍左右。该技术普适性强,特别适用于平面结构LED芯片,要求LED芯片的透明电极使用ITO材料即可。该工艺技术可以在LED芯片蒸镀ITO透明电极之后、制作厚金接触电极之前处理,也可以在LED芯片制作厚金接触电极之后进行处理,对芯片规格无特殊要求,同时也不会影响芯片的后期封装处理,适用范围非常广。 目前,相关技术获发明专利授权

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本技术主要是在蓝光LED芯片的透明电极铟锡氧化物(ITO)层上制备经过设计的纳米结构,有效地提高LED芯片的出光效率。根据前期多次的实验结果,我们可以将现有的LED芯片的发光效率提高1倍左右。该技术普适性强,特别适用于平面结构LED芯片,要求LED芯片的透明电极使用ITO材料即可。该工艺技术可以在LED芯片蒸镀ITO透明电极之后、制作厚金接触电极之前处理,也可以在LED芯片制作厚金接触电极之后进行处理,对芯片规格无特殊要求,同时也不会影响芯片的后期封装处理,适用范围非常广。 目前,相关技术获发明专利授权一项,实用新型专利1项,还有一项发明专利在申请公开中。