领域：新一代信息技术产业 学校：复旦大学职称：教授

一、纳米技术1. 纳米光刻（Nanolithography）:     高分辨率电子束光刻（High resolution electron beam lithography）    纳米压印光刻（Nanoimprint lithography）    卷对卷微纳滚动热压印（Micro Nano roll-to-roll embossing/printing）     三维电子束灰度光刻技术（Grey scale EB-lithography for 3D profile）     Stencil光刻（Stencil lithography）  Stencil近场光刻（Stencil near field lithography (patented)）     电子束全息光刻技术（EBL for holography）     泰伯效应纳米光刻（Talbot nanolithography）     光子纳米喷射超分辨光刻（Super resolution lithography by photon nanojet）2. 微纳工艺与纳米制备（Micro nano processing & nanofabrications）:    X射线光学中高高宽比菲涅尔波带片，汇聚透镜和光栅（High aspect ratio Fresnel zone plates, condenser, gratings ）     纳米尺度反应离子刻蚀，深RIE，离子束刻蚀（Nanoscale RIE, DRIE, Ion beam etch）     纳米压印模板（NIL templates/stamps/shims）     氮化硅隔膜技术（SiNx membrane technique）     纳米压印制备微流体/纳流体（Microfluidic/nanofluidic channels by NIL）     纳米透镜研制超衍射极限成像（Nanolens for image beyond diffraction limit by photon nanojet effect）  原子力显微镜高高宽比探针制备（Manufacture of AFM tips）     纳米电机系统/微米电机系统（NEMS/MEMS technique）二、纳米科学（Nanoscience）1．纳米电子器件（Nanoelectronics）:     高电子迁移率晶体管和T形栅（High electron mobility transistors (HEMTs) and T gates）     石墨烯、硫化钼光电器件和纳米带器件（graphene & MoS2: photoelectronic devices, nanoribbon devices）     低维系统量子输运系统（Quantum transport in lower dimensional systems：2DEG, 1DEG, 0DEG quantum dots）     纳米铁磁结构中与电子自选相关的输运（Spin relevant transport in nano ferromagnetic structures）2．纳米光子学与超构材料（Nanophotonics & metamaterials）：     二维、三维纳米光子晶体和超构材料的光学特性研究（Optical properties of 2D and 3D nanophotonics & metamaterials）     纳米结构色（Coloring effects by nanophotonic structures and metamaterials）    涡旋光场的超薄纳米结构形成与调控技术（Optical vortex (conversion from SAM to OAM by ultrathin nanoconverters）3．纳米仿生结构（Nanobionic structure: technology, science and applications ）  自然生物结构的纳米制备（Nanofabrications of naturally occurring biological nanostructures）     自然仿生结构的光学物理特性研究（Optical and physical property study of fabricated nanobionic structures）1.    高电子迁移率晶体管和单片微波集成线路（HEMTs and MMICs）     所有T形栅的纳米制备工艺（Nanofabrications of all kinds of T shape gates）     GaN基、InP基和GaAs基HEMT器件的纳米制备与特性表征（Fabrications and characterizations of GaN-, InP and GaAs based HEMTs）     平面电感器、电容器、空气桥和薄膜电阻的纳米加工（Fabrications of inductors, capacitors, air-bridge and film resistors）     MMIC制备（Manufactures of MMICs）2.    X射线光学显微成像关键部件纳米加工研制技术（Nanofabrications of X-ray optical components）     高高宽比菲涅尔波带片（High aspect ratio zone plates (100 nm – 10 nm)）     高高宽比汇聚透镜（High aspect ratio condensers (200 – 100 nm)）     高高宽比纳米光栅（High aspect ratio gratings (100 – 50 nm)）三、国家重大工程项目（Large National Engineering Projects）
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