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陈修国

领域:高端装备制造产业 学校:华中科技大学职称:副教授

1.面向集成电路IC制造的纳米测量技术与装备面向集成电路(IC)、发光二极管(LED)、有机显示(OLED)、光伏太阳能(PV)、柔性电子制造中的工艺控制和良率管理,研究纳米薄膜、纳米结构关键尺寸(CD)、套刻误差等三维形貌测量新原理,探索纳米颗粒、刮伤、断线、桥接等纳米缺陷检测新方法,解决IC制造纳米测量装备与缺陷检测装备中的“卡脖子”技术难题。2.新型椭偏仪研制与半导体光电材料表征测量研制穆勒矩阵椭偏仪、成像椭偏仪、层析椭偏仪等新型椭偏仪器,实现石墨烯、过渡金属硫族化合物、黑磷、硅烯等新型二维材料,以及IC、LED、OLED、PV、柔性电子等新型半导体光电材料的电学、光学、力学等物理特性表征测量。...

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教育背景

工作经历

项目课题经历

论文、成果、著作等

承担的科研项目:
1. 国家自然科学基金面上项目,51775217,基于离焦扫描穆勒显微镜的纳米结构缺陷检测理论与方法研究,2018-2021,60万元,在研,主持。
2. 国家自然科学基金青年基金,51405172,纳米结构几何参数广义成像椭偏测量理论与方法研究,2015-2017,25万元,已结题,主持。
3. 湖北省自然科学基金面上项目,基于层析穆勒矩阵散射仪的三维纳米结构测量理论与方法研究,2018CFB605,2018-2019,5万元,在研,主持。
4. 华中科技大学-精测集团联合研发项目,纳米结构关键尺寸测量与缺陷检测关键技术研究,2019-2021,500万元,在研,主持。
5. 国家自然科学基金重大科研仪器研制项目,51727809,高分辨层析成像穆勒矩阵椭偏仪研制与应用基础研究,2018-2022,701万元,在研,参与。
6. 国家科技重大专项子课题,2017ZX02101006-004,套刻误差光学测量技术研究,2017-2020,742万元,在研,参与。

近期学术论文:
[1]     H. Gu, X. Chen*, H. Jiang, Y. Shi, and S. Liu, "Wide field-of-view angle linear retarder with ultra-flat retardance response," Opt. Lett. 44, 3026-3029 (2019).
[2]    X. Chen*, J. Liao, H. Gu, Y. Shi, H. Jiang, and S. Liu, "Proof of principle of an optical Stokes absolute roll-angle sensor with ultra-large measuring range," Sens. Actuat. A 291, 144-149 (2019).
[3]    C. Chen, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, "Calibration of polarization effect of a high-numerical-aperture objective lens with Mueller matrix polarimetry," Meas. Sci. Technol. 30, 025201 (2019).
[4]    Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, "In-line wavefront aberration adjustment of a projection lens for a lithographic tool using the dominant mode method," Appl. Opt. 58, 4176-4184 (2019).
[5]    H. Gu, X. Chen*, Y. Shi, H. Jiang, C. Zhang, P. Gong, and S. Liu, “Comprehensive characterization of a general composite waveplate by spectroscopic Mueller matrix polarimetry,” Optics Express 26(19), 25408-25425 (2018).
[6]    C. Chen, X. Chen*, Y. Shi, H. Gu, H. Jiang, and S. Liu, “Metrology of nanostructures by tomographic Mueller-matrix scatterometry,” Applied Science 8(12), 2583 (2018).
[7]    Y. Tan, C. Chen, X. Chen*, W. Du, H. Gu, and S. Liu, “Development of a tomographic Mueller-matrix scatterometer for nanostructure metrology,” Review of Scientific Instruments 89, 073702 (2018)

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