（1）能量过滤磁控溅射技术是对磁控溅射镀膜技术进行改进后的一种薄膜制备技术，可制备金属、半导体和氧化物等多种薄膜。与常规磁控溅射技术相比，该技术制备的薄膜晶粒均匀细小、结构致密、表面平整。图1给出了两种技术效果的比较。（2）该技术抑制了高能粒子对衬底的轰击，减少了薄膜中的应力和结构缺陷，使薄膜不仅在结构特性方面有显著改善，在光电性能方面也有所提升。（3）该技术设备投资比传统磁控溅射设备稍高，市场前景广阔。