高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半导体、MEMS、生物芯片、精密电路、平板显示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必要设备。研发团队在高精度激光微纳米直写和加工技术方面开展了长期研发创新，建立了业内首个跨尺度的微纳柔性制造平台，其中，大幅面微纳直写光刻装备幅面达65寸，结构分辨率109纳米，打破了纳米光刻加工系统严重依赖国外引进的局面，具有国际领先水平，并在国内外得到广泛应用（南开大学、苏州纳米所、上海理工大学、以色列、日本、韩国等）。