双源电子束真空动态蒸发镀膜仪可用于物理、电子、材料等学科的材料镀膜、器件制备等工业和科研应用领域。整套仪器配有两套电子束蒸发源，可实现电子束蒸发过程中的掺杂，同时具有旋转式的六坩埚靶台，可以沉积不同层不同成分的薄膜。通过级联的冷凝泵和机械泵，腔体真空可达 1×10-8 Torr。通过三个晶振探头可实时监测蒸发的速率和控制薄膜厚度。样品台可以绕托盘法线方向自转，也能够绕水平轴旋转，并可方便地完成动态生长并控制生长形貌。在真空腔中分别加入加热和冷却样品架，电子束沉积过程中能够进行升降温调节，其温控范围低至零下180ºC，高至800ºC。通过动态阴影生长制备的薄膜具有独特的物理性质，有远高于致密薄膜的表面积和独特的几何形貌。目前已将该系统应用于大面积宽带吸收器、手性材料、纳米马达、生化传感器、等离子体仿生材料等制备。