高频软磁薄膜的铁磁共振频率是集成化微磁电感的上限工作频率。受限于较低的声学模共振频率，当前微磁电感的频率较低。基于光学模共振的软磁薄膜具有非常高的共振频率，将成为提高微磁电感频率的新突破口。本发明主要介绍了实现光学模共振的多层膜结构及其制备方法，有望用于制备集成化微磁电感或其他磁性薄膜集成器件。 本发明所述的光学模共振是从未使用过的新原理，基于光学模共振的高频软磁薄膜材料及其集成电路工艺兼容性制备方法，将有利于将其推广到集成电路磁性元器件的各个应用环节，例如，微磁电感、隔离器、耦合器、滤波器等等，具有广阔的应用前景。